光刻胶技术是当今集成电路制作关键技术，光刻后的效果好坏直接影响到集成电路的质量。前不久我公司在武汉大学的要求下，给武汉大学物理系的老师定制了一套超高倍光学成像系统(MD50荧光显微镜|显微镜摄像头|显微镜接口摄像头)，该系统可以直接用来检测光刻后的效果，可以清晰的分清200厚的样品边界，下面是普通金相显微镜和我司改造的显微镜的拍摄效果图对比：

一、系统没改造前的数码金相显微镜所拍摄到的效果图：

二、明美改选显微数码系统后的数码金相显微镜所拍摄到的效果图：

通过这两张显微图片的对比，大家应该就能很清楚地看出了改造前后的不同效果了。

当然如果大家想了解更多有关广州明美关于此系统的改造情况的，可以直接来电我司咨询。