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荧光显微镜技术 TIRF介绍
时间:2013年04月15日

明美光电】TIRF为加强显微荧光影像轴向解析度之一种光学技术,此技术最适用于观察贴近盖玻片表面区域之荧光样本,实现荧光显微镜观察细胞膜相关生理作用,及活体外单分子交互作用之研究等。由于此类样本所需观察的z轴范围仅约100 nm厚,即易受离盖玻片表面较远区域所产生之荧光讯号干扰,影响观察范围的影像清晰度。

TIRF 荧光显微镜利用物理光学全内反射原理,使用可调整入射角度之雷射光源,配合高孔径值之物镜,使雷射光由物镜入射至样本时,在盖玻片与样本介质(主要为水溶液)之交界面,产生光学全内反射现象。此现象使光源不至于穿透交界面而激发整体样本,只有距盖玻片表面厚度不到200nm的范围内之区域为受激发范围,且受激强度随着与盖玻片表面之距离呈等比级数下降。因受激发的范围大量减少,此技术可避免非焦面之样本产生发散荧光,故能解决非焦面荧光杂光之问题,达到光学切片之清晰化效果。

荧光显微镜TIRF技术研发由来已久,早在1981即有第一篇相关论文发表。经多年发展,在雷射导引光路设计、雷射角度调整、物镜NA值、适用之浸油及盖玻片等各方面均不断改良。


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